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基于线结构光自干涉散斑的三维位移测量方法
发明专利未知
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§ Ⅰ
卷宗概要
IPC 分类
G01B 11/02 (2006.01)G01B 11/03 (2006.01)
本发明公开了基于线结构光自干涉散斑的三维位移测量方法,具体按照如下步骤实施:步骤1,在被测物发生面内位移时连续采集散斑特征图像,并对散斑特征图像依次进行特征分析与形态学处理;步骤2,对经过步骤1处理的散斑特征图像进行散斑特征角点识别与匹配;步骤3,使用光流跟踪步骤S2中匹配的散斑特征角点对,输出位移矢量;步骤4,根据输出位移矢量获得散斑发生位移时实际物体表面位移。本发明解决了现有技术中存在的基于两台微波测量仪建立三轴坐标系,重构得到被测目标的离面与面内位移信息,在重构被测目标的离面位移与面内位移时会引入较大误差,导致测量精度低的问题。