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一种光阻余量的确定方法、确定装置及确定系统

发明专利未知
13权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

朱凯勋

申请日

Apr 25, 2025

公开日

Oct 27, 2026

IPC 分类

G03F 7/16 (2006.01)G03F 7/20 (2006.01)

本申请提供一种光阻余量的确定方法、确定装置及确定系统,应用于光阻喷涂设备,光阻喷涂设备具有光阻容器和缓冲容器,光阻容器分别与增压管路和缓冲容器连通,包括:在利用光阻喷涂设备在衬底表面喷涂光阻的过程中,获取光阻喷涂设备在目标时刻的光阻余量参考参数;基于光阻喷涂设备在目标时刻的光阻余量参考参数,确定缓冲容器在目标时刻的光阻余量;其中,光阻余量参考参数包括光阻容器的重力参数、增压管路的气压参数、缓冲容器的液压参数以及光阻容器与缓冲容器之间的光阻流量参数。进而,能够确保工艺不会因光阻容器更换而中断,维持工艺的稳定性与连贯性。

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