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具有源极/漏极区环绕栅极结构的半导体元件

发明专利未知
20权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

汤铭; 庄舒晴

申请日

Mar 6, 2026

公开日

Oct 27, 2026

IPC 分类

H10D 30/62 (2025.01)H10D 62/13 (2025.01)H10D 62/17 (2025.01)

本公开提供一种半导体元件,包括:栅极结构、第一源极/漏极区、第二源极/漏极区以及通道区。栅极结构有中心部分及多个连接部分。自俯视观之,多个连接部分自中心部分突出。自俯视观之,第一源极/漏极区环绕栅极结构。第二源极/漏极区由栅极结构环绕。自截面观之,通道区在第一源极/漏极区下方,且自俯视观之,其环绕栅极结构。

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