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一种晶圆级封装结构及制备方法
发明专利未知
10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
IPC 分类
H10W 74/10 (2026.01)H10W 70/60 (2026.01)H10W 70/63 (2026.01)H10W 70/655 (2026.01)H10W 40/20 (2026.01)H10W 40/25 (2026.01)H10W 42/20 (2026.01)H10W 74/01 (2026.01)H10W 70/06 (2026.01)H10W 70/09 (2026.01)
本发明提供了一种晶圆级封装结构及制备方法,可解决传统封装散热效率低、电磁串扰显著、寄生参数偏高、晶圆翘曲明显、量产良率不足的问题,实现高集成度、优异散热性能与晶圆级量产能力的兼顾。其包括:高导热铜板层;大功率芯片组,其包括有至少一片大功率芯片;硅基封装层,其包括硅晶圆、硅凹槽、厚胶层、TSV硅通孔及TSV导电互联柱;第一重布线层;以及N组上层封装单元,N为大于等于1的自然数,N组相邻的上层封装单元高度方向层叠布置,且每个上层封装单元均包括有塑封层、至少一片小功率芯片以及重布线层,位于顶层的上层封装单元的重布线层为顶层重布线层,所述顶层重布线层上设置有若干锡球。