株式会社斯库林集团

本申请说明书所公开的技术为一种现有技术未解决的IPA蒸气与水蒸气的混合蒸气的分离技术。本申请说明书所公开的技术的基板处理装置具有：处理腔室，收纳贮存有纯水的处理槽，使基板浸渍在纯水中来处理基板；有机溶剂蒸气供给部，将有机溶剂的蒸气供给至处理腔室内；升降机，在从处理槽取出浸渍在纯水中的基板时，一边使有机溶剂的蒸气与基板接触一边提起基板；吸气部，从处理腔室内吸入在处理腔室内所生成的混合蒸气；以及分离膜，将被吸气部吸入的混合蒸气中的纯水的蒸气与有机溶剂的蒸气分离；混合蒸气包含纯水的蒸气以及有机溶剂的蒸气。

本发明涉及一种曝光装置，提供在形成双重曝光区域时能够减少过度曝光的技术。控制部（70）通过控制光调制元件（461），形成在第一主扫描处理中被照射第一描绘光（LBD1）的区域的一部分与在第二主扫描处理中被照射第二描绘光（LBD2）的区域的一部分在副扫描方向（D2）上重合的双重曝光区域（AJ1）。第一描绘光（LBD1）的在副扫描方向（D2）上的光量分布（G1）在双重曝光区域（AJ1）中包含从第一光量（Q1）减少到第二光量（Q2）的第一衰减区（Z1）和从第二光量（Q2）朝向零以与第一衰减区（Z1）不同的梯度减少的第二衰减区（Z2）。

本衬底处理方法中，由第2搬送机构将清洗治具从清洗治具收容部搬送到衬底载置部(步骤S11)，由第1搬送机构将衬底从衬底收容部搬送到衬底载置部(步骤S13)，衬底载置部中，将衬底积层在清洗治具，取得附有清洗治具的衬底作为处理前衬底(步骤S15)，由第2搬送机构将处理前衬底从衬底载置部搬送到处理单元(步骤S16)，在处理单元中进行处理前衬底的清洗处理(步骤S17)。

第1搬送机构将附有框架的衬底从第1附有框架的衬底收容部搬送到第1衬底载置部(步骤S1)。第2搬送机构将附有框架的衬底从第1衬底载置部搬送到处理单元(步骤S2)，在处理单元中进行清洗处理(步骤S3)。第1搬送机构将处理后的附有框架的衬底从第1衬底载置部搬送到第2衬底载置部(步骤S4)。第1搬送机构将以第2衬底载置部储存的处理后的附有框架的衬底从第2衬底载置部搬送到第2附有框架的衬底收容部(步骤S5)。

本发明提供一种基板保持装置，该基板保持装置具备：保持板，将基板保持于保持面；多个致动器，与保持板连结，使保持板至少在保持面的法线方向上变形；底板，支承多个致动器；工作台主体，支承底板；以及机构，配置于工作台主体与底板之间，根据在底板产生的多个致动器的反作用力而变形。还可以提供一种基板贴合装置，其具备所述基板保持装置和保持其他基板的基板保持部，通过基板保持装置和基板保持部中的至少一方以接近另一方的方式移动，使基板与其他基板贴合。

本发明涉及一种基板处理装置以及基板处理装置的控制方法。基板处理装置1包括：获取包含复数片基板W的形状的信息的基板形状信息的映射传感器43等、具有手部51的搬运机器人IR、以及控制部。控制部81在支撑基板W的手部51在容纳架C内移动时，以以下方式控制手部51的速度以及加速度。控制部81使用基板形状信息，获取基板W的厚度，基于厚度，计算第一基板的重量，根据第一基板的重量，决定支撑第一基板时的手部的速度以及加速度。控制部81使用所决定的速度以及加速度，使支撑第一基板的手部在第一插槽内移动。