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一种用于夹持衬底（例如，硅晶片）的静电夹具包括：本体；至少一个中央电极；以及至少一个周边电极。所述本体限定一表面和从该表面延伸的多个突起部（也被称为突节）。多个突起部包括第一组中央突起部和第二组周边突起部。所述至少一个中央电极邻近第一组中央突起部，并且所述至少一个周边电极邻近第二组周边突起部。第二组周边突起部比第一组中央突起部延伸得更远离所述表面。也就是说，最外侧突节具有比中央突节更大的高度。在与突起部大致平行的方向上，第二组周边突起部可以具有比第一组中央突起部更小的刚度。

描述了一种超连续谱辐射源，包括：调制解调器，可操作为调制包括辐射脉冲的串的泵浦激光辐射，以提供经调制的泵浦激光辐射，调制使得选择性地提供脉冲的猝发串；以及中空芯部光子晶体光纤，可操作为接收经调制的泵浦激光辐射，并且激励包含在中空芯部光子晶体光纤内的工作介质，从而产生超连续谱辐射。

一种产生极紫外（EUV）辐射的方法，包括将激光束的激光脉冲引导至锡目标上以产生EUV发射等离子体，其中所述激光脉冲具有至少150 ns的持续时间且具有在1.6微米与2.5微米之间的波长。