蓝思科技股份有限公司

本发明涉及镀层退镀技术领域，公开了退镀剂用组合物、一种退镀方法。该组合物中含有退镀组分和玻璃保护组分；所述玻璃保护组分包括第一保护剂和第二保护剂；所述第一保护剂为氮桥联多烷氧基硅烷；所述第二保护剂为烷醇胺硼酸酯。本发明提供的退镀剂用组合物解决了单一硅烷保护剂（如KH‑550）膜层存在缺陷、防护不彻底的通病，为高附加值微晶玻璃产品的加工降本增效提供了全新技术路径。

本发明提供一种光罩图纸的生成方法、系统及电子设备，属于黄光蚀刻技术领域，该方法包括：在目标区域内生成多个基准坐标点；将基准坐标点等比缩放得到缩放坐标点；对缩放坐标点进行三角剖分得到多个三角形；确定以缩放坐标点为顶点的各三角形的内心，连接各内心得到封闭多边形；根据原始与缩放坐标点坐标对封闭多边形平移，从而得到光罩图纸。本发明通过内心连线生成多边形并结合平移后处理，在赋予图案形态极大差异性的同时确保了轮廓间隙的一致性，进而消除宏观彩虹纹缺陷，并提高了大尺寸光罩图纸的生成效率。