№ CN122975545A発明
不明一种多磨头协同抛光的自适应压力与转速控制方法
本发明公开了一种多磨头协同抛光的自适应压力与转速控制方法,属于工业自动化控制与抛光加工技术领域。该方法包括:采集各抛光磨头的法向力、转速、驱动扭矩、振动响应、接触温度和轴向位移数据;识别各磨头与工件之间的接触机械阻抗;基于上述参数确定各磨头的等效去除能量输入密度;建立空间去除叠加矩阵;根据与目标能量场的偏差确定各磨头的目标去除能量分配量;再根据接触机械阻抗变化、温升状态和振动状态进行修正;最后在修正分配量的约束下联动生成各磨头的目标压力和目标转速。本发明将压力和转速统一纳入等效去除能量约束,实现多磨头协同控制,能够区分不同接触工况,降低热集中和振动叠加风险,提高抛光一致性和稳定性。
❖佛山市东工机械设备有限公司; 广东彩通金属科技有限公司陈泽涛; 廖海彪Oct 27, 2026§ 1/10 請求項B24B 51/00 (2006.01), G05D 27/02 (2006.01), G05B 13/02 (2006.01) +3