一种多磨头协同抛光的自适应压力与转速控制方法

本发明公开了一种多磨头协同抛光的自适应压力与转速控制方法，属于工业自动化控制与抛光加工技术领域。该方法包括：采集各抛光磨头的法向力、转速、驱动扭矩、振动响应、接触温度和轴向位移数据；识别各磨头与工件之间的接触机械阻抗；基于上述参数确定各磨头的等效去除能量输入密度；建立空间去除叠加矩阵；根据与目标能量场的偏差确定各磨头的目标去除能量分配量；再根据接触机械阻抗变化、温升状态和振动状态进行修正；最后在修正分配量的约束下联动生成各磨头的目标压力和目标转速。本发明将压力和转速统一纳入等效去除能量约束，实现多磨头协同控制，能够区分不同接触工况，降低热集中和振动叠加风险，提高抛光一致性和稳定性。