№ CN122995533A発明
不明薄膜的制备方法以及半导体制品
本公开提供了一种薄膜的制备方法以及半导体制品,属于半导体技术领域。所述制备方法包括:将晶圆置于反应腔内;在所述反应腔内顺序进行多个等离子体沉积过程,以在所述晶圆表面形成薄膜,在相邻两个所述等离子体沉积过程之间,对所述晶圆进行原位气体吹扫。本公开可以改善薄膜的膜层均匀性。
❖京东方华灿光电(浙江)有限公司李永茂; 黄鑫; 汪洋; 李威Oct 27, 2026§ 2/10 請求項H10P 14/24 (2026.01), H10P 14/20 (2026.01)