薄膜的制备方法以及半导体制品

本公开提供了一种薄膜的制备方法以及半导体制品，属于半导体技术领域。所述制备方法包括：将晶圆置于反应腔内；在所述反应腔内顺序进行多个等离子体沉积过程，以在所述晶圆表面形成薄膜，在相邻两个所述等离子体沉积过程之间，对所述晶圆进行原位气体吹扫。本公开可以改善薄膜的膜层均匀性。