研磨机台晶圆滑出探测设备抗干扰侦测方法

本申请提供一种研磨机台晶圆滑出探测设备抗干扰侦测方法，采用双光路光强比值检测通过主光路和参考光路的信号比消除共模干扰，结合双光路光强比值的静态均值与动态导数分析，仅当静态和动态条件同时满足时触发机台报警。极大地减少了晶圆滑出探测设备的误侦测报警，减少了因为误报警导致的晶圆氧化报废，以及减少了工程师处理机台报警的额外负担。