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案件記録
曝光机焦平面的补偿方法及装置、曝光方法
発明有効
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§ Ⅰ
案件概要
発明者
李海峰; 张祥平; 赵志豪
IPC分類
G03F 7/20 (2006.01)G03F 9/00 (2006.01)
本申请提供了一种曝光机焦平面的补偿方法及装置、曝光方法,属于光刻领域。该方法包括:间隔若干生产周期,采用标准晶圆片量测得到曝光机的卡盘高度分布图;生产过程中,通过曝光机扫描生产晶圆片,得到生产晶圆片的找平映射图;比对卡盘的高度分布图与生产晶圆片的找平映射图,根据比对结果选择性的启用补偿方法对曝光机的焦平面进行补偿。通过该方法可以对卡盘的损耗进行补偿,以确保曝光精度。
外部リソース