一种工艺腔室及薄膜沉积设备

本发明提供了一种工艺腔室及薄膜沉积设备。工艺腔室包括：加热盘，具有与待加工晶圆同向弯曲的吸附表面，其中，所述吸附表面分布有多个真空吸附部；以及喷淋头，至少用于向被所述待加工晶圆提供沉积薄膜的工艺气体。本发明能够通过使用与待加工晶圆同向弯曲的吸附表面，减小晶圆边缘与加热盘表面的初始间隙，从而降低吸附翘曲晶圆所需的真空吸附力，并抑制工艺气体经由晶圆边缘气体泄漏到晶圆背部成膜的现象。