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案件記録
集成电路装置
発明不明
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§ Ⅰ
案件概要
IPC分類
H10D 84/83 (2025.01)H10D 62/10 (2025.01)H10D 62/80 (2025.01)
提供了一种集成电路装置及其制造方法,其中,在该集成电路装置中,布置弯曲的沟道层以改善电气特性,并且在形成在源极/漏极区的侧壁上的内间隔件中不形成栅极绝缘材料,从而减小寄生电容。
外部リソース
IPC分類
提供了一种集成电路装置及其制造方法,其中,在该集成电路装置中,布置弯曲的沟道层以改善电气特性,并且在形成在源极/漏极区的侧壁上的内间隔件中不形成栅极绝缘材料,从而减小寄生电容。
外部リソース