№ CN122996147A발명
알 수 없음用于改善氮化硅相对于氧化硅的选择性蚀刻的方法
本发明涉及一种用于蚀刻衬底的至少一个表面，优选用于选择性蚀刻氮化硅，更优选用于在氧化硅存在下选择性蚀刻氮化硅的方法。
❖赢创运营有限公司T·P·A·鲁贝鲁; G·法里德; 刘家昌Oct 27, 2026§ 7/13 청구항C09K 3/14 (2006.01), C07F 7/18 (2006.01), C09K 13/04 (2006.01)
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赢创运营有限公司
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