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기록
用于改善氮化硅相对于氧化硅的选择性蚀刻的方法
발명알 수 없음
13청구항 · 7 독립항
§ Ⅰ
개요
IPC 분류
C09K 3/14 (2006.01)C07F 7/18 (2006.01)C09K 13/04 (2006.01)
本发明涉及一种用于蚀刻衬底的至少一个表面，优选用于选择性蚀刻氮化硅，更优选用于在氧化硅存在下选择性蚀刻氮化硅的方法。
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