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색인된 특허 기록 1건

특허 건수는 이 사이트에 수록된 중복 없는 특허 기록 수이며 출원인의 전체 특허 수가 아닙니다. 공동 명의 문자열은 단일 기업을 뜻하지 않습니다.

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再分布层的制造方法

一种再分布层的制造方法，包括：第一曝光步骤，对支撑基板的第一主表面上的负性感光材料层以预定图案进行曝光；第二曝光步骤，从支撑基板的第二主表面侧，对负性感光材料层在其整个表面进行曝光；显影步骤，对经曝光的负性感光材料层显影，以形成第一绝缘层，该第一绝缘层在第二主表面上具有凹部图案；以及第一布线层形成步骤，在第一绝缘层的第二主表面上形成第一布线层；以及分离步骤，从支撑基板的第二主表面侧向第一绝缘层照射光，以将第一绝缘层从支撑基板分离。

❖上海中航光电子有限公司世古畅哉; 伊藤纪之; 铃木昭Oct 16, 2026§ 1/7 청구항H10W 70/05 (2026.01), H10P 76/20 (2026.01)