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기록

掩模版表面缺陷的修复方法

발명유효
10청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

罗先刚; 刘玲; 张党龙; 赵泽宇; 张宇航; 杜韵

IPC 분류

G03F 1/72 (2012.01)

本公开提供了一种掩模版表面缺陷的修复方法,包括:在掩模版的正面涂覆感光材料,形成感光层;基于掩模版的版图,从掩模版的背面照射掩模版,使光线穿过掩模版掩蔽层缺陷所在区域,对掩蔽层缺陷所在区域的感光材料进行曝光;对感光层进行显影,去除掩模版的缺陷所在区域中的感光材料;在掩模版的正面沉积掩蔽材料,掩蔽材料填充掩模版的掩蔽层缺陷所在区域;去除感光层后进行清洗,得到掩蔽层缺陷修复后的掩模版。该方法可以将掩模版表面掩蔽层缺陷修复,减少掩模版的缺陷,提高掩模版的使用寿命,提高掩模版修复效率。