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用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质

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§ Ⅰ

개요

발명자

杲皓冉; 施忞

IPC 분류

G03F 7/20 (2006.01)

根据本公开的实施例,提供了用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质。该方法包括:确定针对具有至少一个突出结构的基板的模拟光信号,模拟光信号指示光经过掩模后在基板上形成的信号;确定针对基板的拓扑信号,拓扑信号与至少一个突出结构相关联;以及基于模拟光信号和拓扑信号,确定针对基板的光刻信号。由此,可以考虑到至少一个突出结构与光刻胶的堆叠对在基板上的信号的影响,这有助于提高光刻信号的准确性。