검색으로 돌아가기
기록
一种场效应晶体管的制造方法、场效应晶体管及版图结构
발명유효
4조회수
7청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
陶霖; 唐玉玲; 黄安柠
IPC 분류
H10D 30/01 (2025.01)H10D 30/66 (2025.01)H10W 20/42 (2026.01)H10W 20/43 (2026.01)H10D 89/10 (2025.01)
本申请提供一种场效应晶体管的制造方法、场效应晶体管及版图结构,该晶体管将屏蔽栅和栅极分开放置,使得屏蔽栅均匀接触源极金属,以便及时响应状态变换,避免器件在局部击穿;且在屏蔽栅顶端对氧化层进行减薄,在反向恢复时减小反向恢复电荷的注入。本发明通过调整屏蔽栅的位置、减薄屏蔽栅氧化层厚度,有效地提高器件的Eas能力,减小了晶体管的反向恢复时间,提升了其反向恢复能力,改善了可靠性。