反射镜系统、包含反射镜系统的微光刻投射曝光设备

本发明涉及一种反射镜系统，其包括具有对EUV辐射具有高反射率的光学表面（32）的EUV反射镜，并且包括承载反射镜系统的系统部件的框架结构（39）。所述框架结构包括结构体（40）和插入件（42），所述插入件（42）由热性能与所述结构体（40）的材料的热性能不同的材料构成。在结构体中形成用于温度调节流体的流体通道（41）。插入件（42）在反射镜系统的操作期间暴露于热负荷。插入件（42）横向于流体通道（41）的方向跨越轮廓线（44），使得流体通道（41）的横截面部分（49）容纳在轮廓线（44）内。本发明还涉及包含这种反射镜系统的微光刻投射曝光设备。