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一种物镜焦面校正方法、装置、电子设备及介质

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§ Ⅰ

개요

출원인

北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)

발명자

曲越奇; 杜旭; 崔莉; 闫心宇

출원일

Aug 5, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

G03F 9/00 (2006.01)G03F 7/20 (2006.01)

本申请提供了一种物镜焦面校正方法、装置、电子设备及介质,其中,该方法包括:获取物镜焦面的基准位置与第一像面位置之间的垂向偏差;获取反映当前物镜焦面位置的第二像面位置,第二像面位置由扫描掩模版所映射的空间图像,并结合当前工件台垂向误差进行校正后获得;基于垂向偏差对第二像面位置进行补偿,以校正物镜焦面的位置。通过本申请,使得物镜焦面校正无需中断生产流程,同时校正过程融合了工件台垂向误差,在兼顾生产效率与校正精度的同时,解决了温度、压力变化导致焦面漂移而难以实时校正的问题。