一种用于MPCVD设备的数字孪生监控系统

本发明涉及新材料智能制造技术领域，尤其涉及一种用于MPCVD设备的数字孪生监控系统，包括光谱处理模块、状态反演模块、模型校准模块和闭环控制模块。本发明利用发射光谱及碰撞辐射模型逆向映射，实时非侵入式获取电子温度、电子密度及CH自由基浓度；基于衬底表面多位置观测值与仿真值的空间分布偏差及其径向分布形态特征，识别并在线修正热交换系数、电子复合系数及粘附系数温度依赖关系；以经校准孪生模型输出的CH浓度为直接反馈量，解耦调节微波功率、腔体压力及CH/H流量比，有效解决了现有技术中因核心工艺参数无法实时测量所导致的数字孪生模型仿真失准及无法精确调控的技术问题。