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기록
半导体器件
발명알 수 없음
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
H10B 12/00 (2023.01)H10D 1/68 (2025.01)
本发明公开了一种半导体器件,包括衬底、电容结构以及支撑结构。电容结构设置在衬底上,包括沿着第一方向和第二方向排列成阵列的多个下电极,至少包括第一下电极和第二下电极。支撑结构设置在相邻的下电极之间并连接下电极。支撑结构包括一开口,位于第一下电极和第二下电极之间。开口包括邻接第一下电极的第一凹入部、和邻接第二下电极的两个第二凹入部,其中,所述第一凹入部的第一弦长大于所述第二凹入部的第二弦长。如此,通过开口及其第一凹入部、第二凹入部的设置,得以有效改善电容结构的电容值,达到相对优化的器件效能。
§ Ⅵ
특허 도면
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