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包括MOS晶体管的电气结构

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§ Ⅰ

개요

발명자

陈昱频; 黄崇勋; 蔡镇宇

출원일

Sep 26, 2025

공개일

Oct 20, 2026

IPC 분류

H10D 64/27 (2025.01)H10D 30/60 (2025.01)H10D 84/83 (2025.01)H10D 84/01 (2025.01)

本公开提供一种电气结构及其制备方法。该电气结构包括一基板以及一金属氧化物半导体(MOS)晶体管。该金属氧化物半导体晶体管设置于该基板的一第一表面上,且包括一栅极结构。该栅极结构具有一顶表面和与该顶表面相对的一底表面。该顶表面的一宽度小于该底表面的一宽度。