一种半导体设备和夹爪防烧蚀方法

本申请公开了一种半导体设备和夹爪防烧蚀方法，涉及半导体设备技术领域。该设备包括光源、卡盘、多轴运动台、控制装置、光斑能量调控件和多个夹爪，卡盘安装于多轴运动台，控制装置与光斑能量调控件和多轴运动台连接。控制装置根据晶圆尺寸和夹爪尺寸确定晶圆上的光斑调控区域，以定位夹爪附近易受反射光影响的高风险区域；控制多轴运动台运动并获取运动信息，以追踪光斑在晶圆表面的位置。当判定光斑位于光斑调控区域内，控制装置向光斑能量调控件发送能量降低指令，使其降低入射至晶圆的光斑能量，从而减小反射光能量，降低夹爪烧蚀及颗粒污染风险，同时保障晶圆边缘区域的检测完整性和检测效率，提高夹爪防护效果和晶圆洁净度。