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기록
钼层的化学机械研磨方法
발명알 수 없음
10청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
陈鹏宇; 孙永康; 吴泽彬; 方浩; 夏汇哲
출원일
Aug 19, 2026
공개일
Oct 27, 2026
IPC 분류
H10P 52/40 (2026.01)B24B 37/04 (2012.01)B24B 57/02 (2006.01)B24B 37/005 (2012.01)
一种钼层的化学机械研磨方法中,由于第一研磨工艺中,采用较高的第一碱性pH值的第一研磨液,获得较高的去除速率,则在较短时间内完成第一厚度钼层的去除,在执行第一研磨工艺之后,将碱性第一研磨液的pH值从第一碱性pH值降低至第二碱性pH值,以使第二研磨工艺的去除速率下降并切换至低腐蚀模式,即机械研磨为主导,相应修复第一研磨工艺中钼层表面的细微划痕,以及抑制钼层的晶界腐蚀的进一步发展,从而在缩短整体工艺时间的前提下,确保钼层表面达到目标平整度和低粗糙度要求。
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