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一种具有含氧桥环结构的聚合物及其制备方法、包含该聚合物的光刻胶及制备方法和光刻图形
발명유효
10조회수
10청구항 · 5 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
张悦; 杨顺; 王鹏
IPC 분류
C08F 220/18 (2006.01)C08F 220/28 (2006.01)C08F 220/20 (2006.01)G03F 7/004 (2006.01)
本申请涉及一种具有含氧桥环结构的聚合物及其制备方法、包含该聚合物的光刻胶及制备方法和光刻图形。含氧桥环结构的聚合物制备包括如下原料:具有含氧桥环结构的丙烯酸单体;含有极性基团丙烯酸单体;侧链含有脱保护基团的丙烯酸单体;制备方法包括:溶解、加热反应、纯化、烘干等步骤;光刻胶包括如下各组分:含氧桥环结构的聚合物、光致产酸剂、酸扩散抑制剂、有机溶剂。本申请的光刻胶通过引入含氧桥环、脂环结构和极性基团,改善了显影对比度和溶解性,具有良好的粘附性和耐蚀刻性能。
§ Ⅵ
특허 도면
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