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Dossier
一种低浊度硅氧烷的制备工艺
InventionActive
8Claims · 1 independent
§ Ⅰ
Dossier Overview
Applicant
云南能投硅材科技发展有限公司
Inventor
刘阳赞; 周立刚; 胡晓雨; 雷丽婷; 李文静; 阮金俊; 李加旺; 骆鑫; 何娇; 庄兴龙
IPC Classification
C08G 77/06 (2006.01)C08G 77/34 (2006.01)B01D 15/18 (2006.01)B01D 17/02 (2006.01)
本发明公开了一种低浊度硅氧烷的制备工艺，按下列步骤进行：S1：将来自上游的水解物硅氧烷送入到一级除氯装置内进行除氯处理，水解物硅氧烷在一级除氯装置的停留时间为10～60min；S2：将除氯处理后的水解物硅氧烷送入到二级除浊装置进行除浊处理，水解物硅氧烷在二级除浊装置的停留时间为10～60min；S3：将除浊处理后的水解物硅氧烷送入到三级除水装置进行除水处理，水解物硅氧烷在三级除水装置的停留时间为10～60min。本发明不仅能够降低了水解物硅氧烷中水分、氯含量以及保障浊度，处理后的水解物中无新杂质引入，且能够有效的降低运行的成本，避免环境污染。
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