一种高透光率抗蓝光光学膜及其制备方法

本申请涉及光学膜技术领域，公开了一种高透光率抗蓝光光学膜及其制备方法，该光学膜包括以下重量份原料组成：聚二甲基硅氧烷60～75份；3‑甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷25～35份；2,4,6‑三（4‑氨基苯基）‑1,3,5‑三嗪0.5～3份；六方氮化硼纳米片1～4份；4,4′‑二硫代二苯胺1～3份；异佛尔酮二异氰酸酯1～3份；聚四氢呋喃2～6份；受阻酚抗氧化剂0.5～2份。通过聚二甲基硅氧烷与3‑甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷的组合，提供了良好的基体粘附性和交联性能，有效增强膜层的稳定性，防止紫外光或蓝光照射引起的分子形态变化，减少光诱导构象重排和分子裂解。