多层膜制备装置及其制备方法

本公开提供一种多层膜制备装置及其制备方法，利用矩形波的脉冲直流磁控溅射来避免打弧现象，减少多层膜缺陷并且降低粗糙度，从而得到高性能的多层膜。该制备装置包括：工作腔室，在该工作腔室内设置有基底和多个靶材；真空泵组，该真空泵组对所述工作腔室进行抽真空，使其真空度达到规定值；工作气体通路，该工作气体通路能够向所述工作腔室输送工作气体；以及脉冲直流电源，该脉冲直流电源对多个所述靶材分别施加在一个周期内具有溅射电压和与该溅射电压反向的反向电压的作为矩形波的脉冲电压，通过在多个所述靶材之间交替地进行脉冲直流磁控溅射，从而在所述基底上制备多层膜。