一种电解铜箔防氧化槽

本申请提供了一种电解铜箔防氧化槽，属于铜箔加工技术领域，该装置包括：调节槽、反应槽、布水器、定位机构、张紧机构与除液机构。其中，调节槽，包括容纳空腔，所述容纳空腔为防氧化液提供流动空间；反应槽，呈竖直状态设置在所述调节槽上，所述反应槽包括进料端与出料端，且铜箔竖直展开通过所述反应槽；布水器，呈长条状设置在所述调节槽上靠近所述反应槽的底部，所述布水器从下至上喷洒防氧化液形成水幕；两个定位机构，设置在所述反应槽的所述进料端与所述出料端，每一所述定位机构用于夹持定位所述铜箔。该装置能够使防氧化液与铜箔充分均匀接触，降低接触过程中杂质与气泡产生的概率，提高铜箔的防氧化质量。