一种金属铝光栅及其制备方法和光学组件

本发明提供了一种金属铝光栅及其制备方法和光学组件。所述制备方法包括以下步骤：S1：在基底的表面依次形成金属铝膜层和PR图形层，所述PR图形层采用纳米压印法形成，所述PR图形层的周期为80nm~120nm，所述PR图形层的线宽与间距各自独立地为45nm~55nm；S2：利用S1中的PR图形层作为掩膜进行金属铝膜层的干法刻蚀，得到与基底表面直接接触的金属铝光栅。本发明可实现在无需刻蚀阻挡层的情况下，通过纳米压印法与干法刻蚀工艺，即可实现在基底上直接形成小周期的清洁度高、形貌良好的Al光栅结构，从而显著提升了工艺简洁性、兼容性与量产效率，适用于大面积制造以及产业化推进。