一种纳米压印模版抗粘处理设备

本发明涉及微纳制造技术领域，具体是一种纳米压印模版抗粘处理设备，包括反应腔室与抗粘试剂输送系统，可在同一腔室内完成模板表面等离子活化、抗粘试剂定量输送、低温气相沉积全过程；通过喷胶阀与多级阀控系统实现微升级试剂精确控制，结合加热蒸发皿实现低温成膜，避免高温损伤柔性模板，等离子原位活化增强表面反应活性，提升抗粘层附着力。本发明解决了传统设备工艺分散、膜层不均、兼容性差等问题，显著提高抗粘层质量与模板使用寿命，适用于半导体、光学器件等领域的高精度纳米压印工艺。