一种用于有机绝缘膜的三嗪基正性光刻胶组合物

本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及一种用于有机绝缘膜的三嗪基正性光刻胶组合物，以质量份计，包括以下组分：含三嗪结构的丙烯酸系聚合物30～100份；光致产酸剂0.05～20份；酸生成剂或碱生成剂0.05～10份；表面活性剂0.005～5份；助粘剂0.005～5份；溶剂100～2000份。本发明通过引入含有双键的三嗪结构作为前驱体，使其与（甲基）丙烯酸及其酯类或者苯乙烯及其衍生物等单体进行自由基共聚，该聚合体系反应活性高，所得聚合物兼具优异的疏水性能、耐热性能和介电性能，显著提升了产品在长期存储与运输过程中的稳定性，同时有效降低了生产成本。