涂胶显影装置的控制方法、设备、介质和程序

本发明涉及涂胶显影设备领域，提供一种控制方法、设备、介质及程序。该方法基于包括第一工艺模块、层间模块和第二工艺模块的装置架构，其中各工艺模块包含N层，每层设有机械手和M个对称分布的工艺单元。通过监测各单元状态，调度第一、第二工艺机械手在各自层内并行传输晶圆，实现涂胶显影的高效并行处理。晶圆完成第二工艺模块处理后，由层间机械手送入层间制冷单元降温，使其温度满足返回第一工艺模块的工艺要求。控制系统基于各模块节拍动态调整层间机械手的传片与暂存时序。本发明用于在涂胶显影装置的晶圆传输过程中协同调度机械手，并通过温度衔接与节拍匹配，实现各工艺模块间的并行高效运行，提高整机产能与工艺稳定性。