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기록
半导体装置
발명유효
13청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
富田幸太
IPC 분류
H10D 30/63 (2025.01)H10D 62/10 (2025.01)H10D 64/23 (2025.01)
本发明的实施方式涉及半导体装置。本实施方式所涉及的半导体装置具有:第1电极及第2电极,分别设置于半导体层的第1主面及第2主面;第1导电型的第1半导体区域;第1导电型的第2半导体区域,从第1半导体区域朝向第2电极延伸,具有上侧区域和下侧区域,该上侧区域具有比第1半导体区域高的杂质浓度,该下侧区域包含宽度比上侧区域窄的区域;第3电极,隔着绝缘区域而设置于半导体层内,沿与从第1电极朝向第2电极的第1方向正交的第2方向而与下侧区域并排;第1导电部,隔着第2半导体区域而与第3电极对置,与第2电极电连接,与下侧区域肖特基接触;以及第2导电部,与第2电极电连接,与上侧区域欧姆接触。