CNIPA.AI
검색으로 돌아가기
기록

一种多级制冷片的制备工艺

발명유효
9청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

邓栓; 陈天顺; 林梓茵

IPC 분류

H10N 10/01 (2023.01)H10N 10/17 (2023.01)H10N 10/817 (2023.01)H10N 10/82 (2023.01)H10N 19/00 (2023.01)

本发明公开了一种多级制冷片的制备工艺,涉及多级制冷片技术领域,该种多级制冷片的制备工艺,通过加热熔化具有第一熔点的第一锡膏,使第一锡膏与第一金属化层和半导体晶粒浸润,再冷却固化,制作成单级制冷片后,再通过加热熔化两个单级制冷片上具有第二熔点的第二锡膏,使第二锡膏与第二金属化层表面充分浸润,从而完成二级甚至多级制冷片的制作,由于第二熔点比第一熔点低,因此,在对第二锡膏进行加热熔化时,单级制冷片内的半导体晶粒上的第一锡膏不会熔化,从而防止了半导体晶粒移位,提高了成品良率,且通过使用第二熔点的第二锡膏,相对于第一锡膏的熔点,降低了加热温度,从而可以在一定程度上节约能源。