一种基于三频双向超声辅助的半导体化学机械抛光装置

本发明涉及半导体化学机械抛光技术领域，具体是一种基于三频双向超声辅助的半导体化学机械抛光装置，其包括转台，转台的台板下表面与转台的外壳上表面之间留有安装间隙，安装间隙内设置有底板和盖板，底板的上表面放置有控制盒、环形穿线管、径向穿线管、轴向穿线管、电磁线圈，转台的台板上表面固定有抛光垫，转台的外壳上安装有电动伸缩柱，电动伸缩柱的伸缩端连接有超声波振子A，超声波振子A的振动端连接有保持筒，保持筒内安装有超声波振子B，超声波振子B的振动端连接有超声波振动片。其解决了现有半导体化学机械抛光技术抛光效率较低、抛光合格率较低、抛光过程稳定性较差、影响半导体材料的性能及可靠性的问题，适用于集成电路领域。