NIFE刻蚀方法

本发明公开了一种NIFE刻蚀方法，其用于MEMS，执行离子束刻蚀包括以下步骤：以第一角度自沿第一方向执行第一时长离子束轰击；以第二角度自沿第二方向执行第一时长离子束轰击；以第三角度自沿第二方向执行第二时长离子束轰击；以第四角度自沿第二方向执行第二时长离子束轰击；其中，第一角度、第二角度、第三角度和第四角度不相同，第一时长大于第二时长，第一方向和第二方向相反。本发明在原有90度/270度主刻蚀之后，追加180度/360度两个对称角度轰击，利用斜向离子束物理溅射把X向侧壁的聚合物彻底去除，阻断后续酸性腐蚀路径，能避免NIFE刻蚀中腐蚀性成分生成，降低X方向噪音，提升良品率。