一种自动真空蒸发镀膜系统

本公开提供了一种自动真空蒸发镀膜系统，该自动真空蒸发镀膜系统包括：主腔体和副腔体，分别能够独立维持在真空环境下；蒸发装置，位于主腔体中，用于将膜料蒸发并沉积到基片上；自动真空供料装置，位于主腔体中，用于在真空条件下为所述蒸发装置持续可控地提供所述膜料；自动上下基片装置，位于所述副腔体中，用于向所述主腔体持续多次提供所述基片；在持续多次提供所述基片的过程中，所述主腔体维持所述真空环境。本公开的自动真空蒸发镀膜系统能够在真空环境下，按照预设的数量和速度为蒸发装置供应膜料和基片，从而确保蒸发镀膜工艺的稳定性和连续性。该系统在不破坏主腔体真空环境的条件下，即可实现长时间的蒸发镀膜以及多批次的镀膜操作。