用于工艺腔室的旋转供水装置、供水系统及气相沉积设备

本申请属于半导体设备技术领域，公开一种用于工艺腔室的旋转供水装置、供水系统及气相沉积设备，供水装置包括：机架，包括底盘、中间筒和上盖，上盖上端安装有旋转电机，底盘用于安装在工艺腔室上端，中间筒与旋转轴之间的空间形成水流通道，在中间筒的侧壁上具有第一入水孔，底盘中心具有与工艺腔室连通的第一出水孔；旋转电机，其输出轴与旋转轴同轴连接；旋转轴，穿过中间筒从第一出水孔穿出，其下端与工艺腔室内的磁体组件连接，在第一出水孔与旋转轴之间构成出水通道。本申请直接用旋转电机给磁体组件提供旋转动力，在机架和旋转轴之间的空间内进行冷却水输送，减少了中间传递动力部件，设备成本投入低、占用空间小、设备振动小。