一种磁控溅射技术灭弧时间能量损失的逐弧补偿方法

本发明公开了一种磁控溅射技术灭弧时间能量损失的逐弧补偿方法，包括：基于磁控溅射电源计算能量损耗和灭弧起始时刻；利用镀膜机台接收所述能量损耗，获取能量损耗程度值；基于所述能量损耗程度值控制靶和基片的相对运动速度，使灭弧时间内基片和靶的溅射时间加长，补偿膜厚的不均匀。本发明通过磁控溅射电源检测每个电弧的发生时刻计算能量损失，并把能量损失和灭弧起始时刻发送给镀膜机台，镀膜机台在接到信号后计算灭弧时间内降低靶和基片的相对运动速度程度降低到一定百分比来补偿膜厚的不均匀。