用于镀膜设备的防粒子沉积遮件

本申请公开了一种用于镀膜设备的防粒子沉积遮件，设于镀膜腔内，包括设置呈环状的上板和下板，上板和下板之间通过上下交错并间隔排列的挡板形成有迷宫型气流通道；遮件外缘与镀膜腔内壁之间存在0‑2mm的间隙，镀膜腔的腔壁接地，将间隙构造成以正电荷为主的电子耗尽区；通过迷宫型通道拦截误入的粒子，并通过电子耗尽区阻挡沿间隙逃逸的粒子，可大幅降低下方腔体的受污染频率，从而减少设备的停机时间与维护成本；迷宫型气流通道和电子耗尽区均为非阻断式设计，迷宫型通道不会阻碍反应气体的正常输送，电子耗尽区也不会影响晶圆与遮件的升降，在实现防污染功能的同时，完全适配现有镀膜设备的工艺节奏，无需改动设备的主体结构。