一种光刻胶退膜液及其制备方法

本发明属于线路板清洗技术领域，公开了一种光刻胶退膜液及其制备方法，该制备方法包括以下制备步骤：在氮气气氛中，将胺类化合物、烷基化试剂和催化剂进行混合、加热搅拌，得到位阻胺化合物，其中，烷基化试剂含有烷基基团和卤素基团，且烷基基团中至少有一个碳原子上连接了三个烷基基团；将铜缓蚀剂加入无机碱溶液中，搅拌混合，得到预混合溶液；将位阻胺化合物、润湿剂加入预混合溶液中，搅拌溶解，得到光刻胶退膜液。通过上述制备方法降低了退膜液中无机铵离子的含量，提升退膜液的退膜速率且避免铜面氧化。