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Dossier
一种光阑及其制备方法
InventionActive
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13Claims · 3 independent
§ Ⅰ
Dossier Overview
Applicant
深圳中科飞测科技股份有限公司
Inventor
李灵佳; 吕肃; 陈鲁
IPC Classification
G02B 5/00 (2006.01)G03F 1/48 (2012.01)G03F 1/68 (2012.01)G03F 1/80 (2012.01)G03F 7/20 (2006.01)
本申请实施例提供一种光阑及其制备方法,该光阑包括依次设置的金属膜层、硅基底、硬掩膜层以及光阑孔,其中,硅基底具有第一面和相对的第二面,第一面具有第一孔结构,第二面具有第二孔结构,第二孔结构在第二面上的长度由带电粒子束的束斑直径确定;金属膜层具有第三孔结构,硬掩膜层具有第四孔结构;光阑孔由第三孔结构、第一孔结构、第二孔结构和第四孔结构连通形成。本申请实施例中基于带电粒子束的束斑直径确定了第二孔结构在第二面上的长度,并采用先在沉积后的硅基底的第二面刻蚀第二孔结构,后在第一面刻蚀第一孔结构的方法,提高了亚微米级光阑孔的尺寸精度及一致性。
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