离轴照明光刻掩模及其制备方法、光刻系统

本公开提供了一种离轴照明光刻掩模及其制备方法、光刻系统，可应用于微纳加工与先进光刻技术领域，该光刻掩模包括：掩模基底，包括相对设置的第一表面和第二表面；光刻掩模图形结构，位于掩模基底的第二表面；入光部，位于掩模基底的第一表面，入光部包括多个周期性排列的入光单元；其中，入光单元在垂直于第一表面的方向上具有V型结构，V型结构从第一表面向第二表面逐渐内缩，每个V型结构包括两个相互连接的斜坡面；入光部还包括带通滤波膜，带通滤波膜至少覆盖于V型结构的两个斜坡面上。