一种高数值孔径极紫外光刻系统及光刻方法

本发明提供一种高数值孔径极紫外光刻系统及光刻方法。该系统通过双光瞳分次曝光的通带限域结构，以余弦权重融合晶圆曝光剂量，叠加物理耗散装置选择性耦合光瞳面奇对称模式，避免杂散能量回灌成像通道；并引入双通道暗端口干涉结构实时监测并校正晶圆倾斜与离焦扰动，同时掩模采用多层相位平坦反射堆栈和高红外发射率保护膜以确保光束相位稳定。晶圆划片区集成波前相位监测结构，实现曝光过程中的像瞳相位拾取和像差参数采集，并通过统一边缘法则校准各曝光场的临界尺寸与剂量、焦距偏差关系，以实曝光相位与三维电磁仿真一致性为成像约束，仅控制补偿二阶内扰动，将更高阶扰动记录为残差，从而显著提高了高NA极紫外光刻的成像分辨率和稳定性。