曝光系统及光刻设备

本申请提供一种曝光系统及光刻设备，包括：光源；检测模块，所述检测模块用于采集所述光源的光强信号，并将所述光强信号发送至控制模块；控制模块，所述控制模块用于接收所述光强信号，并根据所述光强信号控制所述光源至设定光强。如此，本申请中的曝光系统中光源、检测模块和控制模块构成闭环控制系统——控制模块根据检测模块采集到的实时光强调节光源的光强，以实现对于光源的实时光衰补偿，进而使曝光系统能够自适应地调节光源的输出光强。